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•Calibre nmLVS-Recon 技術可對早期 IC 設計進行快速、系統性和自動化的分析

為了幫助集成電路 (IC) 設計人員更快地實現設計收斂，Mentor, a Siemens business 近日將Calibre® Recon 技術擴展至 Calibre nmLVS 電路驗證平臺。Calibre Recon 技術于2019年推出，作為 Mentor Calibre nmDRC 套件的擴展，旨在幫助客戶在早期驗證設計迭代期間快速、自動和準確地分析 IC 設計中的錯誤，從而極大地縮短設計周期和產品上市時間。

Calibre nmLVS-Recon 解決方案能夠幫助芯片級系統 (SoC) 工程師、電路設計人員和 IC 電路驗證團隊在開發(fā)階段的早期，識別并解決選定的系統錯誤，縮短電路驗證的總周轉時間。這些系統錯誤不僅會消耗寶貴的計算資源，而且可能產生數百萬個錯誤結果，其中許多錯誤是因為設計數據不完整而產生。Calibre nmLVS-Recon 解決方案的早期采用者在分析早期設計時能夠實現 10 倍以上的運行時間改善，內存需求減少3 倍。

“Calibre nmLVS-Recon建立了電路驗證使用模型的全新范式，”三星電子設計支援副總裁 Jongwook Kye 表示，“通過將Calibre nmLVS-Recon 技術與三星經過認證的 Sign-off Calibre nmLVS 設計套件相結合，我們的共同客戶將可以在早期設計中實現更快的迭代，從而縮短 LVS 驗證周期，在三星實現快速tape out。”

Calibre nmLVS-Recon 技術基于靈活的配置框架，支持多種使用模型，使設計團隊能夠選擇和分析特定類別的電路驗證問題。該工具采用自動化的智能執(zhí)行啟發(fā)法（intelligent execution heuristics），旨在幫助用戶在完整的 Calibre nmLVS Signoff 流程與 Calibre Recon 選擇的電路驗證檢查之間無縫導航。借助數據分區(qū)、設計細分、數據復用、任務分布和錯誤管理的高級選項，可按原樣將 Calibre nmLVS-Recon 流程與任何晶圓代工廠/集成設備制造商 (IDM) 的 Calibre sign-off 設計套件結合使用，而且可以應用于任何工藝技術節(jié)點。

早期的設計版本通常包含許多明顯的系統違規(guī)問題。例如，“網絡短路” (shorted nets) 這樣的違規(guī)會造成數百萬個錯誤，而且會耗費大量計算資源?，F在，電路驗證工程師可以使用 Calibre nmLVS-Recon 短路隔離配置，以交互和迭代的方式快速有效地查找并修復這一類型的違規(guī)問題。此選項是內置的，可以實現最佳靈活性和設計分析意圖的變化，同時保持易用性和無縫的使用模型轉換。

“通過向 Calibre 平臺添加 Calibre nmLVS-Recon 技術，Mentor能夠繼續(xù)協助客戶直面日趨復雜的 IC 設計挑戰(zhàn)。”Mentor的Calibre 設計解決方案產品管理副總裁 Michael Buehler-Garcia 表示，“Calibre nmDRC-Recon 方法提供的早期設計探索已經幫助多個設計團隊節(jié)省了大量的版圖驗證時間。現在，Mentor 通過 Calibre nmLVS-Recon 技術帶來了同樣的優(yōu)勢，在縮短電路驗證的總周轉時間的同時，還幫助設計團隊解決了當今芯片設計的復雜性問題。”

Calibre nmLVS-Recon已隨 2020 年 7 月發(fā)布的 Calibre 系列同期上市，并計劃在以后的版本中提供更多功能。

Mentor Graphics Corporation是西門子旗下業(yè)務，擁有世界領先的電子硬件和軟件設計解決方案，致力于為全球最成功的電子、半導體和系統企業(yè)提供產品、咨詢服務以及優(yōu)質支持。公司總部位于俄勒岡州。更多詳情敬請訪問：http://www.mentor.com