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•Calibre nmLVS-Recon 技術(shù)可對早期 IC 設(shè)計(jì)進(jìn)行快速、系統(tǒng)性和自動(dòng)化的分析

為了幫助集成電路 (IC) 設(shè)計(jì)人員更快地實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)收斂，Mentor, a Siemens business 近日將Calibre® Recon 技術(shù)擴(kuò)展至 Calibre nmLVS 電路驗(yàn)證平臺(tái)。Calibre Recon 技術(shù)于2019年推出，作為 Mentor Calibre nmDRC 套件的擴(kuò)展，旨在幫助客戶在早期驗(yàn)證設(shè)計(jì)迭代期間快速、自動(dòng)和準(zhǔn)確地分析 IC 設(shè)計(jì)中的錯(cuò)誤，從而極大地縮短設(shè)計(jì)周期和產(chǎn)品上市時(shí)間。

Calibre nmLVS-Recon 解決方案能夠幫助芯片級(jí)系統(tǒng) (SoC) 工程師、電路設(shè)計(jì)人員和 IC 電路驗(yàn)證團(tuán)隊(duì)在開發(fā)階段的早期，識(shí)別并解決選定的系統(tǒng)錯(cuò)誤，縮短電路驗(yàn)證的總周轉(zhuǎn)時(shí)間。這些系統(tǒng)錯(cuò)誤不僅會(huì)消耗寶貴的計(jì)算資源，而且可能產(chǎn)生數(shù)百萬個(gè)錯(cuò)誤結(jié)果，其中許多錯(cuò)誤是因?yàn)樵O(shè)計(jì)數(shù)據(jù)不完整而產(chǎn)生。Calibre nmLVS-Recon 解決方案的早期采用者在分析早期設(shè)計(jì)時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn) 10 倍以上的運(yùn)行時(shí)間改善，內(nèi)存需求減少3 倍。

“Calibre nmLVS-Recon建立了電路驗(yàn)證使用模型的全新范式，”三星電子設(shè)計(jì)支援副總裁 Jongwook Kye 表示，“通過將Calibre nmLVS-Recon 技術(shù)與三星經(jīng)過認(rèn)證的 Sign-off Calibre nmLVS 設(shè)計(jì)套件相結(jié)合，我們的共同客戶將可以在早期設(shè)計(jì)中實(shí)現(xiàn)更快的迭代，從而縮短 LVS 驗(yàn)證周期，在三星實(shí)現(xiàn)快速tape out。”

Calibre nmLVS-Recon 技術(shù)基于靈活的配置框架，支持多種使用模型，使設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)能夠選擇和分析特定類別的電路驗(yàn)證問題。該工具采用自動(dòng)化的智能執(zhí)行啟發(fā)法（intelligent execution heuristics），旨在幫助用戶在完整的 Calibre nmLVS Signoff 流程與 Calibre Recon 選擇的電路驗(yàn)證檢查之間無縫導(dǎo)航。借助數(shù)據(jù)分區(qū)、設(shè)計(jì)細(xì)分、數(shù)據(jù)復(fù)用、任務(wù)分布和錯(cuò)誤管理的高級(jí)選項(xiàng)，可按原樣將 Calibre nmLVS-Recon 流程與任何晶圓代工廠/集成設(shè)備制造商 (IDM) 的 Calibre sign-off 設(shè)計(jì)套件結(jié)合使用，而且可以應(yīng)用于任何工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)。

早期的設(shè)計(jì)版本通常包含許多明顯的系統(tǒng)違規(guī)問題。例如，“網(wǎng)絡(luò)短路” (shorted nets) 這樣的違規(guī)會(huì)造成數(shù)百萬個(gè)錯(cuò)誤，而且會(huì)耗費(fèi)大量計(jì)算資源。現(xiàn)在，電路驗(yàn)證工程師可以使用 Calibre nmLVS-Recon 短路隔離配置，以交互和迭代的方式快速有效地查找并修復(fù)這一類型的違規(guī)問題。此選項(xiàng)是內(nèi)置的，可以實(shí)現(xiàn)最佳靈活性和設(shè)計(jì)分析意圖的變化，同時(shí)保持易用性和無縫的使用模型轉(zhuǎn)換。

“通過向 Calibre 平臺(tái)添加 Calibre nmLVS-Recon 技術(shù)，Mentor能夠繼續(xù)協(xié)助客戶直面日趨復(fù)雜的 IC 設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)。”Mentor的Calibre 設(shè)計(jì)解決方案產(chǎn)品管理副總裁 Michael Buehler-Garcia 表示，“Calibre nmDRC-Recon 方法提供的早期設(shè)計(jì)探索已經(jīng)幫助多個(gè)設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)節(jié)省了大量的版圖驗(yàn)證時(shí)間。現(xiàn)在，Mentor 通過 Calibre nmLVS-Recon 技術(shù)帶來了同樣的優(yōu)勢，在縮短電路驗(yàn)證的總周轉(zhuǎn)時(shí)間的同時(shí)，還幫助設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)解決了當(dāng)今芯片設(shè)計(jì)的復(fù)雜性問題。”

Calibre nmLVS-Recon已隨 2020 年 7 月發(fā)布的 Calibre 系列同期上市，并計(jì)劃在以后的版本中提供更多功能。

Mentor Graphics Corporation是西門子旗下業(yè)務(wù)，擁有世界領(lǐng)先的電子硬件和軟件設(shè)計(jì)解決方案，致力于為全球最成功的電子、半導(dǎo)體和系統(tǒng)企業(yè)提供產(chǎn)品、咨詢服務(wù)以及優(yōu)質(zhì)支持。公司總部位于俄勒岡州。更多詳情敬請?jiān)L問：http://www.mentor.com